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 涂(tu)層(ceng)(ceng)產品(pin)在各(ge)個領域都(dou)有(you)廣(guang)泛應用，是常(chang)用的固(gu)態(tai)薄膜，可以(yi)作(zuo)為(wei)防護、絕(jue)緣以(yi)及裝(zhuang)修等用處，其(qi)制備方法主要是選用物理堆積技能或化學(xue)堆積技能將金屬(shu)或非金屬(shu)化合物涂(tu)鍍(du)于(yu)基(ji)體(ti)材(cai)料上(shang)，構(gou)成鍍(du)層(ceng)(ceng)。不過，涂(tu)層(ceng)(ceng)制造會產生內(nei)部應力，影(ying)響(xiang)涂(tu)層(ceng)(ceng)運用，導致失效(xiao)。因此，要采取相應措(cuo)施消除或削(xue)弱(ruo)涂(tu)層(ceng)(ceng)結構(gou)內(nei)部的應力，避(bi)免(mian)應力引起的各(ge)種失效(xiao)。

一、挑選合適基體

要(yao)消除涂層(ceng)(ceng)中的(de)熱(re)應(ying)力(li)(li)，根(gen)本方法就是選(xuan)用(yong)熱(re)膨脹(zhang)系(xi)數相同的(de)涂層(ceng)(ceng)和(he)基(ji)體材料。其次(ci)是讓成膜(mo)(mo)溫(wen)度與涂層(ceng)(ceng)的(de)測(ce)量溫(wen)度或(huo)運(yun)用(yong)溫(wen)度相同。此(ci)外，熱(re)應(ying)力(li)(li)作為(wei)薄膜(mo)(mo)應(ying)力(li)(li)的(de)一部(bu)分(fen)，受溫(wen)度的(de)影響而易于操控(kong)，這樣通(tong)過(guo)熱(re)應(ying)力(li)(li)的(de)改動(dong)與本征應(ying)力(li)(li)互相作用(yong)，調整薄膜(mo)(mo)的(de)微觀應(ying)力(li)(li)，或(huo)許起到改進應(ying)力(li)(li)的(de)作用(yong)。

二、做熱退火處理

涂層(ceng)中存在的(de)各(ge)種缺(que)陷(xian)是產生(sheng)本征(zheng)應(ying)力的(de)主(zhu)要原因。這些缺(que)陷(xian)一般都對錯平(ping)衡缺(que)陷(xian)，故有(you)自行(xing)消失的(de)傾向。但是，要產生(sheng)消失，需求外界處以活化能。在對涂層(ceng)進行(xing)熱處理時(shi)，外界處以熱能，非平(ping)衡缺(que)陷(xian)許(xu)多消失，因此涂層(ceng)內應(ying)力明顯下降。

三、添加中心涂層

在涂鍍多層高反、增透或其(qi)它介質膜(mo)(mo)的過程中，膜(mo)(mo)料應(ying)力(li)(li)性質相(xiang)同，這樣就會增大整個膜(mo)(mo)層的應(ying)力(li)(li)，導致涂層決裂或掉落。使(shi)用(yong)應(ying)變相(xiang)消的原理，在膜(mo)(mo)層與膜(mo)(mo)層之間再堆積一層薄膜(mo)(mo)，操控工藝使(shi)膜(mo)(mo)內出現與結構涂層相(xiang)反的應(ying)力(li)(li)狀態，來緩(huan)解應(ying)力(li)(li)帶(dai)來的損壞作(zuo)用(yong)。

別(bie)的(de)(de)(de)(de)，當基(ji)(ji)(ji)體(ti)和(he)涂層(ceng)(ceng)(ceng)的(de)(de)(de)(de)材料性(xing)質不同過大(da)時，即界面性(xing)質不一致(zhi)，其互(hu)相作用(yong)(yong)就大(da)，這(zhe)種(zhong)作用(yong)(yong)力有使(shi)兩種(zhong)材料結構類似的(de)(de)(de)(de)作用(yong)(yong)趨勢，因此(ci)涂層(ceng)(ceng)(ceng)內(nei)產(chan)生很大(da)的(de)(de)(de)(de)變(bian)形，構成內(nei)應力。這(zhe)種(zhong)狀況可先對基(ji)(ji)(ji)體(ti)進行(xing)表(biao)面處理，即添加(jia)亞層(ceng)(ceng)(ceng)，增大(da)表(biao)面的(de)(de)(de)(de)濕潤(run)性(xing)，對涂層(ceng)(ceng)(ceng)和(he)基(ji)(ji)(ji)體(ti)的(de)(de)(de)(de)結構起到過渡作用(yong)(yong)，保持(chi)結構的(de)(de)(de)(de)連續性(xing)，然后減小應力。

　四、改動工藝參數

堆積過(guo)程(cheng)中工(gong)藝(yi)參數(shu)的(de)改(gai)動會直接影響薄(bo)膜中的(de)剩(sheng)下應(ying)力水(shui)平，通過(guo)調整鍍膜時(shi)的(de)基底溫度、作(zuo)業氣壓、堆積速率(lv)等(deng)工(gong)藝(yi)參數(shu)可(ke)以操控(kong)薄(bo)膜中應(ying)力的(de)大小(xiao)，甚至會改(gai)動應(ying)力的(de)性質。

例如，對于濺射(she)鍍膜，跟著反應(ying)腔內濺射(she)氣壓的(de)(de)增大(da)，高能(neng)離(li)子(zi)(zi)(zi)(粒子(zi)(zi)(zi))的(de)(de)濃度增大(da)，使(shi)得氣體(ti)分(fen)子(zi)(zi)(zi)安閑程減(jian)小，存在嚴峻互相碰(peng)撞的(de)(de)散射(she)現象，然后減(jian)小了(le)氣體(ti)分(fen)子(zi)(zi)(zi)的(de)(de)能(neng)量(liang)，原子(zi)(zi)(zi)噴丸效應(ying)削弱，增大(da)了(le)堆積粒子(zi)(zi)(zi)流的(de)(de)傾斜分(fen)量(liang)，致使(shi)膜結(jie)構疏松(song)，壓應(ying)力(li)越來越小，變(bian)為張(zhang)應(ying)力(li)，張(zhang)應(ying)力(li)先增大(da)再減(jian)小。

五、改進堆積技能

在磁控濺射(she)堆(dui)積涂層(ceng)過程中，跟著射(she)頻源功率的改動(dong)(dong)，堆(dui)積原子的動(dong)(dong)能也產生改動(dong)(dong)，界(jie)面分散(san)層(ceng)結(jie)構和膜層(ceng)結(jie)構的缺陷濃度(du)也隨之改動(dong)(dong)。因此，涂層(ceng)內(nei)的剩下應(ying)力就會產生改動(dong)(dong)。